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经皮穴位电刺激对颅脑手术围术期脑氧脑糖代谢的影响

时间:2010-08-24 11:37:29  来源:  作者:

 

 

  【摘要】  目的:观察经皮穴位电刺激(TAES)在颅脑手术围术期对脑组织氧糖代谢的影响。方法:神经外科择期手术患者50例,随机分为治疗组(E组,n25)和对照组(C组,n25),E组采用经皮穴位电刺激干预。麻醉诱导后持续吸入七氟醚和间断静脉注射舒芬太尼和维库溴胺维持麻醉。分别在麻醉诱导前(T0)、切皮前(T1)、术毕(T2)、拔管后10minT3)采取颈内静脉球部血及桡动脉血进行血气分析,测定和计算各时相脑动静脉血氧含量差(Da-jvO2)、脑动静脉血糖含量差(Da-jvGlu)、脑动静脉乳酸含量差(Da-jvLac)。结果:两组患者Da-jvO2T1T2T3均低于T0P<0.05),其中E组在T2T3T0比较差异具有显著性(P<0.01),并且在T2T3组间比较差异具有显著性(P<0.01)。EDa-jvGluT2T3明显低于T0P<0.05),而C组在麻醉前后保持相对稳定,组间比较E组在T2T3小于C组,且差异有显著性(P<0.05)。结论:TAES在颅脑手术围术期应用可以降低脑组织的氧糖代谢。

   【关键词】  经皮穴位电刺激;神经外科;脑代谢 

 

 

 

 

 

 

 

 

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